⑴ 鍍膜機 抽真空裝置
真空連續鍍膜機可以做到的。濺鍍 (Sputtering) 技術之開發，將各種靶材濺鍍至塑膠、ABS及其他被鍍物上，使其外觀改變為類金屬，或增強其他功能。現因濺鍍製程無環保問題，又在歐盟推動有毒物質限用指令(Rohs)下，更是取代傳統電解、電鍍一大利器。
產品的運用：
運用連續式真空鍍膜方法成為近代薄膜合成方式的主流，主要是在各種不同的基材表面以真空濺鍍的方式製作各種功能性薄膜，不僅具有低成本、速度快的優點，相較於傳統的水電鍍技術，真空鍍膜技術更具有環保、可回收等特性；其應用范圍包括抗電磁波干擾鍍膜處理EMI 、Shielding、外觀鍍膜、感溫棒表面處理、觸控面板薄膜處理、導光板鍍膜處理、 ITO 導電玻璃薄膜處理、金屬反射膜、光學鏡片鍍膜、塑膠材料鍍膜線路板、軟性 PCB前段製程、液晶顯示器鍍膜處理、OLED 鍍膜處理、PLED鍍膜處理、微機光電材料及奈米材料等，其用途極為廣泛。
本公司由單腔體式的真空設備作連結，依各不同領域的客戶需求，由單腔體式真空設備連結成三腔式、五腔式、八腔式、甚至於十一腔式及十三腔式的超大型連續式高真空濺鍍設備系統單腔體式之系統可用於學術研究，若結合相關周邊設備如：底漆塗裝、噴砂、自動化機械手臂、超音波洗凈機等，可形成一連貫的全自動生產線。
應用產業：
．手機業 － 手機機殼、按鍵、屏幕、EMI...
．通訊產業 － EMI、裝飾...
．印刷電路板 － BGA、軟性基板、PCB...
．製鞋業 － Clean、裝飾...
．被動元件 －晶片電阻...
⑵ 我買了一個手機納米鍍膜機是假的怎麼辦
退貨呀，因為沒有質量的東西可以退，說出你的原因，如果真的對方自然會退，不用擔心！
⑶ 磁控濺射鍍膜機的工作原理是什麼
磁控濺射原理：電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發生碰撞，電離出大量的氬離子和電子，電子飛向基片。氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉積在基片上成膜。二次電子在加速飛向基片的過程中受到磁場洛侖磁力的影響，被束縛在靠近靶面的等離子體區域內，該區域內等離子體密度很高，二次電子在磁場的作用下圍繞靶面作圓周運動，該電子的運動路徑很長，在運動過程中不斷的與氬原子發生碰撞電離出大量的氬離子轟擊靶材，經過多次碰撞後電子的能量逐漸降低，擺脫磁力線的束縛，遠離靶材，最終沉積在基片上。磁控濺射就是以磁場束縛和延長電子的運動路徑，改變電子的運動方向，提高工作氣體的電離率和有效利用電子的能量。電子的歸宿不僅僅是基片，真空室內壁及靶源陽極也是電子歸宿。但一般基片與真空室及陽極在同一電勢。磁場與電場的交互作用（ E X B drift）使單個電子軌跡呈三維螺旋狀，而不是僅僅在靶面圓周運動。至於靶面圓周型的濺射輪廓，那是靶源磁場磁力線呈圓周形狀形狀。磁力線分布方向不同會對成膜有很大關系。在E X B shift機理下工作的不光磁控濺射，多弧鍍靶源，離子源，等離子源等都在次原理下工作。所不同的是電場方向，電壓電流大小而已。
磁控濺射的基本原理是利用 Ar一02混合氣體中的等離子體在電場和交變磁場的作用下，被加速的高能粒子轟擊靶材表面，能量交換後，靶材表面的原子脫離原晶格而逸出，轉移到基體表面而成膜。
磁控濺射的特點是成膜速率高，基片溫度低，膜的粘附性好，可實現大面積鍍膜。該技術可以分為直流磁控濺射法和射頻磁控濺射法。
具體問題可以私信我。
⑷ 鍍膜機加熱接和 器一直跳是什麼原因
不知是怎樣的跳法？是按啟動吸合，手離按鈕跳開、還是按下按鈕就吸合跳開連續動作。先者是自保接點或是按鈕線有問題。後者是設備電源線截面取小了，供電電壓正常免強用，一旦電壓低就出現接觸器沒合電壓360v。吸合帶負載電壓立馬下降，跳開，電壓又上升又吸合又跳開，連續啪啪啪動作。
⑸ 真空鍍膜機的操作方法
真空離子鍍膜法
粗抽 精抽 升溫 貯入AR CH4 H2 N2 間冷 開爐
產品 TIN TICN TIC
⑹ 膜法世界手機納米真空鍍膜機多少錢
建議上阿里巴巴上找一下，或者來深圳這邊來看看！
如果是准備采購膜的話，也可以直接找廠家采購成品，膜護甲數碼配件的手機膜還不錯，銷量也還不錯！
⑺ 真空鍍膜機的復合真空計怎麼調零點和滿度
我 不知道 你說的 鍍膜機 是那種 型號 的 ，但是 具體 分析 低真空 抽速慢 有 以下 幾點， 第一 罐體 有漏氣點， 第二 低真空 泵組 有達不到 功率的泵，第三 真空計 的 零點 滿度 需校對 急 規管 檢查。一般 這幾點 會 影響到 低真空的 數值。下面分析，第一 查漏 的 最好方法 氦氣檢漏儀，（如果沒有條件）可以 用 丙酮 噴灑 連接處 觀察 真空度，如真空度 反彈較大 該連接處 有 漏點。 第二 檢查真空泵組（如果 鍍膜機 有 2個 系統，我們 可以 但系統 運行，比較 2個 系統真空 情況 ）如果 一個系統 就要單個 泵 密封 抽氣口 連接 真空計 來 測試該 泵 抽率。第三 如果真空計 的 零點 滿度 不準 也會影響 真空 數值，須 循環 調試 3次以上，可以 換一個 新的 規管來試一試，換下來的 規管 可以 滴入 少量酒精（無水乙醇）清潔後 可 再次 使用。
⑻ 真空鍍膜機的結構原理
一、電控櫃的操作 1. 開水泵、氣源 2. 開總電源 3. 開維持泵、真空計電源，真空計檔位置V1位置，等待其值小於10後，再進入下一步操作。約需5分鍾。 4. 開機械泵、予抽，開渦輪分子泵電源、啟動，真空計開關換到V2位置，抽到小於2為止，約需20分鍾。 5. 觀察渦輪分子泵讀數到達250以後，關予抽，開前機和高閥繼續抽真空，抽真空到達一定程度後才能開右邊的高真空表頭，觀察真空度。真空到達2×10-3以後才能開電子槍電源。 二、DEF-6B電子槍電源櫃的操作 1. 總電源 2. 同時開電子槍控制Ⅰ和電子槍控制Ⅱ電源：按電子槍控制Ⅰ電源、延時開關，延時、電源及保護燈亮，三分鍾後延時及保護燈滅，若後門未關好或水流繼電器有故障，保護燈會常亮。 3. 開高壓，高壓會達到10KV以上，調節束流可到200mA左右，簾柵為20V/100mA，燈絲電流1.2A，偏轉電流在1~1.7之間擺動。 三、關機順序 1. 關高真空表頭、關分子泵。 2. 待分子泵顯示到50時，依次關高閥、前級、機械泵，這期間約需40分鍾。 3. 到50以下時，再關維持泵。