⑴ 镀膜机 抽真空装置
真空连续镀膜机可以做到的。溅镀 (Sputtering) 技术之开发，将各种靶材溅镀至塑胶、ABS及其他被镀物上，使其外观改变为类金属，或增强其他功能。现因溅镀制程无环保问题，又在欧盟推动有毒物质限用指令(Rohs)下，更是取代传统电解、电镀一大利器。
产品的运用：
运用连续式真空镀膜方法成为近代薄膜合成方式的主流，主要是在各种不同的基材表面以真空溅镀的方式制作各种功能性薄膜，不仅具有低成本、速度快的优点，相较于传统的水电镀技术，真空镀膜技术更具有环保、可回收等特性；其应用范围包括抗电磁波干扰镀膜处理EMI 、Shielding、外观镀膜、感温棒表面处理、触控面板薄膜处理、导光板镀膜处理、 ITO 导电玻璃薄膜处理、金属反射膜、光学镜片镀膜、塑胶材料镀膜线路板、软性 PCB前段制程、液晶显示器镀膜处理、OLED 镀膜处理、PLED镀膜处理、微机光电材料及奈米材料等，其用途极为广泛。
本公司由单腔体式的真空设备作连结，依各不同领域的客户需求，由单腔体式真空设备连结成三腔式、五腔式、八腔式、甚至于十一腔式及十三腔式的超大型连续式高真空溅镀设备系统单腔体式之系统可用于学术研究，若结合相关周边设备如：底漆涂装、喷砂、自动化机械手臂、超音波洗净机等，可形成一连贯的全自动生产线。
应用产业：
．手机业 － 手机机壳、按键、屏幕、EMI...
．通讯产业 － EMI、装饰...
．印刷电路板 － BGA、软性基板、PCB...
．制鞋业 － Clean、装饰...
．被动元件 －晶片电阻...
⑵ 我买了一个手机纳米镀膜机是假的怎么办
退货呀，因为没有质量的东西可以退，说出你的原因，如果真的对方自然会退，不用担心！
⑶ 磁控溅射镀膜机的工作原理是什么
磁控溅射原理：电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞，电离出大量的氩离子和电子，电子飞向基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉积在基片上成膜。二次电子在加速飞向基片的过程中受到磁场洛仑磁力的影响，被束缚在靠近靶面的等离子体区域内，该区域内等离子体密度很高，二次电子在磁场的作用下围绕靶面作圆周运动，该电子的运动路径很长，在运动过程中不断的与氩原子发生碰撞电离出大量的氩离子轰击靶材，经过多次碰撞后电子的能量逐渐降低，摆脱磁力线的束缚，远离靶材，最终沉积在基片上。磁控溅射就是以磁场束缚和延长电子的运动路径，改变电子的运动方向，提高工作气体的电离率和有效利用电子的能量。电子的归宿不仅仅是基片，真空室内壁及靶源阳极也是电子归宿。但一般基片与真空室及阳极在同一电势。磁场与电场的交互作用（ E X B drift）使单个电子轨迹呈三维螺旋状，而不是仅仅在靶面圆周运动。至于靶面圆周型的溅射轮廓，那是靶源磁场磁力线呈圆周形状形状。磁力线分布方向不同会对成膜有很大关系。在E X B shift机理下工作的不光磁控溅射，多弧镀靶源，离子源，等离子源等都在次原理下工作。所不同的是电场方向，电压电流大小而已。
磁控溅射的基本原理是利用 Ar一02混合气体中的等离子体在电场和交变磁场的作用下，被加速的高能粒子轰击靶材表面，能量交换后，靶材表面的原子脱离原晶格而逸出，转移到基体表面而成膜。
磁控溅射的特点是成膜速率高，基片温度低，膜的粘附性好，可实现大面积镀膜。该技术可以分为直流磁控溅射法和射频磁控溅射法。
具体问题可以私信我。
⑷ 镀膜机加热接和 器一直跳是什么原因
不知是怎样的跳法？是按启动吸合，手离按钮跳开、还是按下按钮就吸合跳开连续动作。先者是自保接点或是按钮线有问题。后者是设备电源线截面取小了，供电电压正常免强用，一旦电压低就出现接触器没合电压360v。吸合带负载电压立马下降，跳开，电压又上升又吸合又跳开，连续啪啪啪动作。
⑸ 真空镀膜机的操作方法
真空离子镀膜法
粗抽 精抽 升温 贮入AR CH4 H2 N2 间冷 开炉
产品 TIN TICN TIC
⑹ 膜法世界手机纳米真空镀膜机多少钱
建议上阿里巴巴上找一下，或者来深圳这边来看看！
如果是准备采购膜的话，也可以直接找厂家采购成品，膜护甲数码配件的手机膜还不错，销量也还不错！
⑺ 真空镀膜机的复合真空计怎么调零点和满度
我 不知道 你说的 镀膜机 是那种 型号 的 ，但是 具体 分析 低真空 抽速慢 有 以下 几点， 第一 罐体 有漏气点， 第二 低真空 泵组 有达不到 功率的泵，第三 真空计 的 零点 满度 需校对 急 规管 检查。一般 这几点 会 影响到 低真空的 数值。下面分析，第一 查漏 的 最好方法 氦气检漏仪，（如果没有条件）可以 用 丙酮 喷洒 连接处 观察 真空度，如真空度 反弹较大 该连接处 有 漏点。 第二 检查真空泵组（如果 镀膜机 有 2个 系统，我们 可以 但系统 运行，比较 2个 系统真空 情况 ）如果 一个系统 就要单个 泵 密封 抽气口 连接 真空计 来 测试该 泵 抽率。第三 如果真空计 的 零点 满度 不准 也会影响 真空 数值，须 循环 调试 3次以上，可以 换一个 新的 规管来试一试，换下来的 规管 可以 滴入 少量酒精（无水乙醇）清洁后 可 再次 使用。
⑻ 真空镀膜机的结构原理
一、电控柜的操作 1. 开水泵、气源 2. 开总电源 3. 开维持泵、真空计电源，真空计档位置V1位置，等待其值小于10后，再进入下一步操作。约需5分钟。 4. 开机械泵、予抽，开涡轮分子泵电源、启动，真空计开关换到V2位置，抽到小于2为止，约需20分钟。 5. 观察涡轮分子泵读数到达250以后，关予抽，开前机和高阀继续抽真空，抽真空到达一定程度后才能开右边的高真空表头，观察真空度。真空到达2×10-3以后才能开电子枪电源。 二、DEF-6B电子枪电源柜的操作 1. 总电源 2. 同时开电子枪控制Ⅰ和电子枪控制Ⅱ电源：按电子枪控制Ⅰ电源、延时开关，延时、电源及保护灯亮，三分钟后延时及保护灯灭，若后门未关好或水流继电器有故障，保护灯会常亮。 3. 开高压，高压会达到10KV以上，调节束流可到200mA左右，帘栅为20V/100mA，灯丝电流1.2A，偏转电流在1~1.7之间摆动。 三、关机顺序 1. 关高真空表头、关分子泵。 2. 待分子泵显示到50时，依次关高阀、前级、机械泵，这期间约需40分钟。 3. 到50以下时，再关维持泵。